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等離子體增強(qiáng)旋轉(zhuǎn)PECVD系統(tǒng)

產(chǎn)品型號(hào):

負(fù)責(zé)人:周貝貝

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產(chǎn)品詳情

設(shè)備簡介：

旋轉(zhuǎn)擺振PECVD系統(tǒng)適用于粉體材料的表面薄膜沉積。系統(tǒng)由高功率射頻電源（500W，13.56MHz）、氣體質(zhì)量流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)擺振系統(tǒng)組成，采用NBD-101EP集中總線控制技術(shù)的操作軟件。利用等離子體特性來控制或影響氣相反應(yīng)和材料表面的化學(xué)反應(yīng)過程，并在適當(dāng)?shù)臏囟认鲁练e薄膜。PECVD淀積的薄膜具有電學(xué)性能、襯底附著性以及臺(tái)階覆蓋性，正由于這些特點(diǎn)使其在大規(guī)模集成電路、光電器件、MEMS等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。

配置詳情：

	主要特點(diǎn)： 1、射頻電源Z大輸出功率：500W（連續(xù)可調(diào)），Z大反射功率 70W； 2、電磁波屏蔽方案; 3、異形高純石英爐管，大容量反應(yīng)空間； 4、旋轉(zhuǎn)（60檔精調(diào)設(shè)計(jì)）擺振結(jié)構(gòu)，保證物料與等離子體的充分接觸； 5、三路高精度質(zhì)量流量計(jì)（可依要求定制），集成混氣系統(tǒng)； 6、進(jìn)出料設(shè)計(jì)，設(shè)備在結(jié)構(gòu)復(fù)雜狀態(tài)下的便捷進(jìn)出料； 7、射頻系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)擺振系統(tǒng)全面集成于一體，7英寸全觸屏操作，操作便捷、直觀； 8、可保存六組工藝參數(shù)，隨時(shí)調(diào)取； 9、實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)可自動(dòng)截圖，并支持USB接口導(dǎo)出。
電氣規(guī)格	AC220V 1.5千瓦
設(shè)備尺寸	W1300mm×H1250mm×D760mm；
反應(yīng)腔室	Φ120*L300mm（可定制，管內(nèi)焊接三組攪拌擋板），非射頻區(qū)管徑：φ60mm；
翻轉(zhuǎn)速度	0.1～6轉(zhuǎn)/min（無極調(diào)速）；
翻轉(zhuǎn)傾角	-3°～+3° Z大傾倒角度30°
反應(yīng)腔壓力	5~80pa
法蘭結(jié)構(gòu)	航空鋁快開模式；
操作系統(tǒng)	NBD-101EP集中總線控制集成系統(tǒng)，7"真彩觸摸屏操控，智能模糊PID 控制；智能式人機(jī)對(duì)話模式；
RF 電源	輸出功率10～500W 任意連續(xù)可調(diào)，射頻頻率: 13.56MHz ±0.005% ，全自動(dòng)匹配；
真空測(cè)試	數(shù)字真空計(jì)獲取裝置；
真空獲取	NBD-4C機(jī)械真空泵(220V/50Hz)，功率：0.4KW，抽速：4m3/h；
供氣系統(tǒng)	質(zhì)量流量控制器（量程及標(biāo)定可定制）精度：±1%F.S；響應(yīng)時(shí)間：1-4秒；
設(shè)備細(xì)節(jié)
控制系統(tǒng)		1、燒結(jié)工藝曲線設(shè)置：動(dòng)態(tài)顯示設(shè)置曲線，設(shè)備燒結(jié)可預(yù)存多條工藝曲線，每條工藝曲線可自由設(shè)置； 2、可預(yù)約燒結(jié)，實(shí)現(xiàn)無人值守?zé)Y(jié)工藝曲線燒結(jié)； 3、實(shí)時(shí)顯示燒結(jié)功率電壓等信息并記錄燒結(jié)數(shù)據(jù)，并可導(dǎo)出實(shí)現(xiàn)無紙記錄； 4、具有實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程操控，實(shí)時(shí)觀測(cè)設(shè)備狀態(tài)； 5、溫度校正：主控溫度和試樣溫度的差值，燒結(jié)全程進(jìn)行非線性修正。
部分界面
凈重	約320KG
設(shè)備使用注意事項(xiàng)	1.射頻匹配器一般處于自動(dòng)匹配狀態(tài)，一般功率需達(dá)到50W以上才能匹配； 2.若采用手動(dòng)匹配，將功率設(shè)到60W左右，手動(dòng)調(diào)諧匹配合適時(shí)，再增加功率 3.工作時(shí)，需改變腔體的氣流量，先要要把功率設(shè)置為零，不能直接按“OFF”按鍵關(guān)閉射頻輸出。

實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備

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