BACK

NBD-PECVD1200-80TI PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

產(chǎn)品型號(hào):NBD-PECVD1200-80TI

負(fù)責(zé)人:周貝貝

QQ:707171058

手機(jī):13526881466

在線留言 400-098-6966

產(chǎn)品詳情

設(shè)備簡(jiǎn)介:

該產(chǎn)品是由固態(tài)等離子源、氣體質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、襯底控溫系統(tǒng)、真空系統(tǒng)組成，采用集中總線控制技術(shù)的操作軟件。適用于室溫至1200℃條件下進(jìn)行SiO2、SiNx薄膜的沉積，同時(shí)可實(shí)現(xiàn)TEOS源沉積，SiC膜層沉積以及液態(tài)氣態(tài)源沉積其它材料，適合于有機(jī)材料上保護(hù)層膜和溫度下無(wú)損傷鈍化膜的沉積。

配置詳情:

	1. 清洗鍍膜一氣呵成，杜絕二次污染； 2. 上開啟式結(jié)構(gòu)，方便觀察試樣； 3. 產(chǎn)品采用全自動(dòng)控制方式，觸摸屏，數(shù)字化顯示； 4. 設(shè)備一體化程度高； 5. 射頻電源，均勻的溫度分布，提高成膜質(zhì)量；
產(chǎn)品型號(hào)	NBD-PECVD1200-80TI
電氣規(guī)格	AC220V 4KW
可達(dá)溫度	1200 ℃
連續(xù)溫度	1150 ℃
可達(dá)加熱速率	≤ 20 ℃/分鐘
射頻電源	500W 13.56MHz
爐管尺寸	Φ80*1200mm
沉積示意圖				如圖所示：此為該設(shè)備沉積過(guò)程中的示意圖
控制系統(tǒng)			1.NBD-101EP嵌入式操作系統(tǒng)中英文互換圖形界面，7寸真彩觸屏輸入，智能式人機(jī)對(duì)話模式，實(shí)時(shí)加熱功率顯示，非線性式樣溫度修正；實(shí)驗(yàn)報(bào)告自主生成，實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)無(wú)限次導(dǎo)出。 2.實(shí)驗(yàn)過(guò)程直觀，操作便捷； 3.具有超溫報(bào)警、斷偶提示、漏電保護(hù)等功能。
溫度精度	+/- 1 ℃
加熱元件			Mo摻雜的Fe-Cr-Al合金
密封系統(tǒng)
	真空度：≤10Pa（機(jī)械泵）
壓力測(cè)量與監(jiān)控		采用數(shù)顯真空計(jì)，可使設(shè)備真空度直觀，實(shí)驗(yàn)結(jié)果準(zhǔn)確。
供氣系統(tǒng)		采用兩路質(zhì)子流量計(jì)準(zhǔn)確控制氣體流速，與設(shè)備集成為一體；
凈重	360KG
設(shè)備使用注意事項(xiàng)	1. 設(shè)備爐膛溫度≥300℃時(shí)，禁止打開爐膛，避免受到傷害； 2. 設(shè)備使用時(shí)，爐管內(nèi)壓力不得超過(guò)0.125MPa，以防止壓力過(guò)大造成設(shè)備損壞； 3. 真空下使用時(shí)，設(shè)備使用溫度不得超過(guò)800℃。 4. 供氣鋼瓶?jī)?nèi)部氣壓較高，向爐管內(nèi)通入氣體時(shí)，氣瓶上須安裝減壓閥，建議在選購(gòu)試驗(yàn)用小壓力減壓閥，減壓閥量程為0.01MPa-0.15MPa,使用時(shí)會(huì)準(zhǔn)確安全。 5.當(dāng)爐體溫度高于1000℃時(shí)，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng)，保持在常壓狀態(tài)； 6.高純石英管的長(zhǎng)時(shí)間使用溫度≦1100℃ 7.加熱的實(shí)驗(yàn)時(shí)，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對(duì)樣品加熱，則需時(shí)刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，須立刻打開排氣端閥門，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等）

實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備

產(chǎn)品推薦

NBD-PECVD1200-80TI PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

產(chǎn)品詳情

您可以通過(guò)在線留言聯(lián)系我們:

相關(guān)產(chǎn)品

HQC-2全自動(dòng)微機(jī)差熱儀

氧化誘導(dǎo)期分析儀

HQC-4全自動(dòng)微機(jī)差熱儀

HQC-3全自動(dòng)微機(jī)差熱儀

關(guān)于我們

南北儀器