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EX2自動橢圓偏振測厚儀

產(chǎn)品型號:EX2

負責(zé)人:趙德廠

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產(chǎn)品詳情

EX2自動橢圓偏振測厚儀是基于消光法（或稱“零橢偏”）橢偏測量原理，針對納米薄膜厚度測量領(lǐng)域推出的一款自動測量型教學(xué)儀器。
EX2儀器適用于納米薄膜的厚度測量，以及納米薄膜的厚度和折射率同時測量。
EX2儀器還可用于同時測量塊狀材料（如，金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)）的折射率n和消光系數(shù)k。
特點
經(jīng)典消光法橢偏測量原理
儀器采用消光法橢偏測量原理，易于操作者理解和掌握橢偏測量基本原理和過程。
方便安全的樣品水平放置方式
采用水平放置樣品的方式，方便樣品的取放。
緊湊的一體化結(jié)構(gòu)
集成一體化設(shè)計，簡潔的儀器外形通過USB接口與計算機相連，方便使用。
高準確性的激光光源
采用激光作為探測光波，測量波長準確度高。
豐富實用的樣品測量功能
可測量納米薄膜的膜厚和折射率；塊狀材料的復(fù)折射率、樣品反射率、樣品透過率。
便捷的自動化操作
儀器軟件可自動完成樣品測量，并可進行方便的測量數(shù)據(jù)分析、儀器校準等操作。
安全的用戶使用權(quán)限管理
軟件中設(shè)置了用戶使用權(quán)限（包括：管理員、操作者等模式），便于儀器管理和使用。
可擴展的儀器功能
利用本儀器，可通過適當(dāng)擴展，完成多項偏振測量實驗，如馬呂斯定律實驗、旋光測量實、旋光等。
應(yīng)用
EX2適合于教學(xué)中單層納米薄膜的薄膜厚度測量，也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。
EX2可測量的樣品涉及微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁質(zhì)存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等領(lǐng)域。

技術(shù)指標(biāo)

項目	技術(shù)指標(biāo)
儀器型號	EX2
測量方式	自動測量
樣品放置方式	水平放置
光源	He-Ne激光器，波長632.8nm
膜厚測量重復(fù)性*	0.5nm (對于Si基底上100nm的SiO2膜層)
膜厚范圍	透明薄膜：1-4000nm 吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān)
折射率范圍	1.3 – 10
探測光束直徑	Φ2-3mm
入射角度	30°-90°，精度0.05°
偏振器方位角讀數(shù)范圍	0-360°
偏振器步進角	0.014°
樣品方位調(diào)整	Z軸高度調(diào)節(jié)：16mm 二維俯仰調(diào)節(jié)：±4°
允許樣品尺寸	樣品直徑可達Φ160mm
配套軟件	* 用戶權(quán)限設(shè)置 * 多種測量模式選擇 * 多個測量項目選擇 * 方便的數(shù)據(jù)分析、計算、輸入輸出
大外形尺寸	約400400250mm
儀器重量（凈重）	約20Kg
選配件	* 半導(dǎo)體激光器

光學(xué)儀器設(shè)備

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